【半導體產品清洗超純水設備工藝】
預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）
【半導體產品清洗超純水設備特點】
為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設計上，取達國家自來水標準的水為源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床（EDI電除鹽系統）系統等。 系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用*和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。
【應用場合】
1.半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路；
2.電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗；
3.電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液；
4.顯像管和陰極射線管生產、配料用純水；
5.黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；
6.液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液；
7.晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制；
8.集成電路生產中高純水清洗硅片；
9.LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏；
10.高品質顯像管、螢光粉生產；
11.半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗；
12.超純材料和超純化學試劑、超純化工材料；
13.實驗室和中試車間；
14.汽車、家電表面拋光處理；
15.光電產品、其他高科技精微產品。
